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当前位置:首页产品中心低温恒温系列低温恒温槽DC-0530立式低温水浴锅温度可选

立式低温水浴锅温度可选
产品简介

立式低温水浴锅温度可选是自带制冷和加热的高精度恒温源, 可在机内水槽进行恒温实验,或通过软管与其他设备相连,作为恒温源配套使用。泛用于石油、化工、电子仪表、物理、化学、生物工程、医药卫生、生命科学、轻工食品、物性测试及化学分析等研究部门

产品型号:DC-0530
更新时间:2025-10-10
厂商性质:生产厂家
访问量:14
详细介绍在线留言
品牌其他品牌温度稳定性±0.05℃
温度范围﹣30~100℃水浴槽容积30L
温控功能制冷/加热型价格区间5千-1万
循环功能内外循环仪器种类恒温浴槽
产地类别国产应用领域环保,食品/农产品,化工,生物产业,制药/生物制药

立式低温水浴锅温度可选


立式低温水浴锅温度可选技术参数:

型号

温度范围

温度波
动度

显示精度

工作槽容积
mm³

工作槽开
mm²

槽深
mm

循环泵流
L/min

排水

 DC-0506

5~100

±0.05

0.01

250×200×150

180×160

150

6

DC-0510

5~100

±0.05

0.01

250×200×200

180×160

200

6

DC-0515

5~100

±0.05

0.01

300×250×200

235×160

200

6

DC-0520

5~100

±0.05

0.01

280×250×300

235×160

300

6

DC-0530

5~100

±0.05

0.01

420×330×230

310×280

230

13

DC-1006

10~100

±0.05

0.01

250×200×150

180×160

150

6

DC-1010

10~100

±0.05

0.01

250×200×200

180×160

200

6

DC-1015

10~100

±0.05

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300×250×200

235×160

200

6

DC-1020

10~100

±0.05

0.01

280×250×300

235×160

300

6

DC-1030

10~100

±0.05

0.01

420×330×230

310×280

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DC-2006

20~100

±0.05

0.01

250×200×150

180×160

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6

DC-2010

20~100

±0.05

0.01

250×200×200

180×160

200

6

DC-2015

20~100

±0.05

0.01

300×250×200

235×160

200

6

DC-2020

20~100

±0.05

0.01

280×250×300

235×160

300

6

DC-2030

20~100

±0.05

0.01

420×330×230

310×280

230

13

DC-3006

30~100

±0.1

0.1

250×200×150

180×160

150

6

DC-3010

30~100

±0.1

0.1

250×200×200

180×160

200

6

DC-3015

30~100

±0.1

0.1

300×250×200

235×160

200

6

DC-3020

30~100

±0.1

0.1

280×250×300

235×160

300

6

























低温恒温槽是一种重要的实验室设备,它在科学研究和工业生产中发挥着关键作用。以下是低温恒温槽的主要作用:
提供恒定的低温环境
低温恒温槽主要用于提供恒定的低温环境,这对于许多实验和生产过程来说是至关重要的。它可以精确地控制温度,确保实验条件的一致性,从而提高实验结果的可靠性和重复性。
反应控制
在化学反应中,温度是影响反应速率和选择性的关键因素。某些化学反应需要在低温下进行,以减缓反应速度、控制反应进程或提高产物的选择性。低温恒温槽能够提供稳定的低温环境,有利于实现精确的温控需求。
实验研究
在材料科学、物理学及生物学等领域,研究者可能需要在低温条件下进行实验,以研究物质在低温状态下的性质变化或进行低温实验如超导现象研究等。低温恒温槽在这些研究中发挥着重要作用。
样品保存
在生物制药和医学领域,低温恒温槽用于保存细胞、病毒和其他生物样本,确保它们在低温环境下保持活性和稳定性。这对于生物医学研究和临床应用至关重要。
提供恒温源
低温恒温槽可以作为恒温源,通过软管与其他设备相连,为其他设备提供低温或恒温条件。这在需要精确温度控制的实验和生产过程中非常有用。
安全性高
与使用液氮或干冰等低温冷却方法相比,低温恒温槽减少了操作风险和安全隐患,尤其避免了玻璃器皿在快速变温时的破裂风险。此外,它还具备过温保护、低液位报警等安全功能,确保实验进程的连续性和设备的长期稳定运行。
使用方便
低温恒温槽通常设计有良好的用户界面,便于设置和监控温度参数。它采用智能控温系统,能够将温度波动控制在很小的范围内,为实验提供稳定可靠的温度条件。
综上所述,低温恒温槽在实验室中扮演着的角色,它不仅提供了精确的温度控制,还提高了实验的安全性和便利性,是科学研究和工业生产中重要的温控设备。


立式低温水浴锅温度可选可控硅,是可控硅整流元件的简称,是一种具有三个PN结的四层结构的大功率半导体器件,亦称为晶闸管。具有体积小、结构相对简单、功能强等特点,是比较常用的半导体器件之一。该器件被广泛应用于各种电子设备和电子产品中,多用来作可控整流、逆变、变频、调压、无触点开关等。
可控硅的结构和性能
不管可控硅的外形如何,它们的管芯都是由P型硅和N型硅组成的四层P1N1P2N2结构.它有三个PN结(J1、J2、J3),从J1结构的P1层引出阳A,从N2层引出阴级K,从P2层引出控制G,所以它是一种四层三端的半导体器件.
它是由四层半导体材料组成的,有三个PN结,对外有三个电:层P型半导体引出的电叫阳A,D三层P型半导体引出的电叫控制G,D四层N型半导体引出的电叫阴K。从晶闸管的电路符号可以看到,它和二管一样是一种单方向导电的器件,关键是多了一个控制G,这就使它具有与二管不同的工作特性。
以硅单晶为基本材料的P1N1P2N2四层三端器件,起始于1957年,因为它的特性类似于真空闸流管,所以国际上通称为硅晶体闸流管,简称晶闸管T,又因为晶闸管初的在静止整流方面,所以又被称之为硅可控整流元件,简称为可控硅SCR.
在性能上,可控硅不仅具有单向导电性,而且还具有比硅整流元件(俗称"死硅")更为可贵的可控性.它只有导通和关断两种状态.
可控硅能以毫安级电流控制大功率的机电设备,如果超过此功率,因元件开关损耗显著增加,允许通过的平均电流相降低,此时,标称电流应降级使用.
可控硅的优点很多,例如:以小功率控制大功率,功率放大倍数高达几十万倍;反应快,在微秒级内开通、关断;无触点运行,无火花、无噪音;效率高,成本低等等.
可控硅的弱点:静态及动态的过载能力较差;容易受干扰而误导通
可控硅的特性
常用的有阻容移相桥触发电路、单结晶体管触发电路、晶体三管触发电路、利用小晶闸管触发大晶闸管的触发电路,等等。可控硅的主要参数
可控硅的主要参数有:
平均值
1、 额定通态平均电流IT在yi定条件下,阳---阴间可以连续通过的50赫兹正弦半波电流的平均值。
2、 正向阻断峰值电压VPF 在控制开路未加触发信号,阳正向电压还未超过导能电压时,可以重复加在可控硅两端的正向峰值电压。可控硅承受的正向电压峰值,不能超过手册给出的这个参数值。
3、 反向阻断峰值电压VPR当可控硅加反向电压,处于反向关断状态时,可以重复加在可控硅两端的反向峰值电压。使用时,不能超过手册给出的这个参数值。
4、 控制触发电流Ig1 、触发电压VGT在规定的环境温度下,阳---阴间加有yi定电压时,可控硅从关断状态转为导通状态所需要的较小控制电流和电压。
5、 维持电流IH在规定温度下,控制断路,维持可控硅导通所必需的较小阳正向电流。许多新型可控硅元件相继问世,如适于高频应用的快速可控硅,可以用正或负的触发信号控制两个方向导通的双向可控硅,可以用正触发信号使其导通,用负触发信号使其关断的可控硅等等。


立式低温水浴锅温度可选



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